光刻机是干什么用的

光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备。

光刻机（Mask Aligner），又或丛渗名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（stepper）或扫描式光刻机（scanner），获得比模板更小的曝光图样。

光刻机衫脊分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动，指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；半自动，指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动，指的是从基板的上载下载，曝光时长郑睁和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单，接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。