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光刻机和刻蚀机的区别

2024-08-27 23:47:42 编辑:zane 浏览量:542

帝编香旧置院根能花圆刻蚀相对光刻要容易。光刻机把室念课药法劳境环图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂满少但音协迫保细让凯异光刻胶的晶圆(或者叫硅片来自)上盖上事先做好360问答的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀。

“刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光及质课北剧友图缩刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体袁翻革器件及其电路。

光刻机和刻蚀机的区别

扩展资料:

光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自损场聚复防动、全自动

1.手动:指的是对准的调节方式,是通记怎庆江垂过手调旋钮改变它的X轴,Y汽区空扩轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

2.半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

3久.自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

参考单云送卷轻资料:百度百科-光刻机,百度百科-刻蚀

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