靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
目前,(纯度)溅射靶材按照化学成分不同可分为:
1)金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等)。
2)合金靶材(镍铬合金、镍钴合等)。
3)陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化陪孝物、硫化物等)。
按开关不同可分为:长靶、方靶、圆靶。
按应用领域不同可分为:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、具改性靶材、电子器件拍滚靶材、其他靶材。
金属靶材的铝、钛、铜、钽,在半导体晶圆制造中,200mm( 8寸)及以下晶圆制造通常以铝制程为主,使用的靶材芦贺稿以铝、钛元素为主。300mm( 12寸)晶圆制造,多使用先进的铜互连技术,主要使用铜、钽靶材。
版权声明:文章由 百问九 整理收集,来源于互联网或者用户投稿,如有侵权,请联系我们,我们会立即处理。如转载请保留本文链接:https://www.baiwen9.com/tips/152368.html